項目名稱：半導體材料生產(chǎn)控溫

使用設備型號：反應釜防爆模溫機

在光刻膠的生產(chǎn)過程中，需要維持溫度在150攝氏度，同時由于反應過程中會產(chǎn)生熱量，因此需要適時進行冷卻以確保生產(chǎn)過程穩(wěn)定?？販氐膶ο笫欠磻械墓饪棠z。在光刻膠的生產(chǎn)過程中，溫度是關(guān)鍵參數(shù)之一，對產(chǎn)品質(zhì)量和產(chǎn)能都有影響。

反應釜防爆模溫機擁有6KW的功率，整機采用隔離式防爆設計（EXdII BT4），具備PLC編程控制功能，同時帶有冷卻系統(tǒng)，其中包括1平方的板式換熱器。

反應釜防爆模溫機的高溫穩(wěn)定性和防爆設計為客戶的生產(chǎn)帶來了效率提高。光刻膠的生產(chǎn)過程現(xiàn)在更加可靠，產(chǎn)品質(zhì)量得到了提高，產(chǎn)能也有了顯著的提高。